检测基体： 铁基、铜基、铝基、镍基、钴基、 镁基、钛基、锌基、铅基、锡基、 银基 应用领域： 冶金、铸造、机械、科研、商检、 汽车、石化、造船、电力、航空、 核电、金属和有色金属冶炼、加工 和回收工业中的各种分析。 光学系统 帕型一龙格罗兰圆全谱真空型光学系统 -高性能光学系统 - 自动光路校准 - 单板式透镜设计 - 真空室 一体化 -真空防返油技术 - 开放式激发台 - 喷射电极技术 -集成气路模块 -全数字化激发光源 - 高速数据采集 - 以太数据传输 - 预制工作曲线 - 分析速度快捷 - 多基体分析 - 软件多国语言 波长范围 120~800nm 焦 距 ≥400mm 探 测 器 高性能CMOS阵列 光源类型 数字光源，高能预燃技术(HEPS) 放电频率 100-1000Hz 放电电流 最大400A 工作电源 220V AC 50/60Hz 仪器尺寸 720×860x500 仪器重量 约100kg(不含真空系统) 检测时间 依据样品类型而定，一般20S左右 电 极 钨材喷射电极 分析间隙 样品台分析间隙：3.4mm 真空系统 真空软件自动控制、监测 工作温度 10℃~35℃ 工作湿度 20%~85% 光室恒温 34℃,温度自动监测 氩气纯度要求 99.999% 氩气进口压力 0.5MPa 氩气流量 激发流量约3.5L/min